A magnetically controlled chemical-mechanical polishing (MC-CMP) approach for fabricating channel-cut silicon crystal optics for the High Energy Photon Source
- 聯(lián)系作者：
- 刊物名稱：JOURNAL OF SYNCHROTRON RADIATION
- 所屬學(xué)科：
- 作者：Hong, Z; Diao, QS; Xu, W et al.
- 發(fā)表年度：2023
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- 論文類別：
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