一種基于連續(xù)雙縫掃描的束流發(fā)射度測量儀及測量方法
- 英文名稱：A beam emittance measuring instrument and measuring method based on continuous double-slit scanning
- 專利號：ZL 202311509940.9
- 專利類別：發(fā)明授權(quán)
- 專利證書號：
- 申請?zhí)枺?/span>CN202311509940.9
- 發(fā)明人：楊仁俊; 陳偉文; 劉仁洪; 姜世民
- 其它發(fā)明人：
- 申請日期：2023-11-13
- 授權(quán)日期：2024-09-24
