一種高分辨率慢正電子束形貌的測(cè)量方法及裝置
- 英文名稱：The present invention relates to a high-resolution slow positive electron beam topography measuring method and its equipment
- 專利號(hào)：ZL 202110732713.7
- 專利類別：發(fā)明授權(quán)
- 專利證書號(hào)：
- 申請(qǐng)?zhí)枺?/span>CN202110732713.7
- 發(fā)明人：況鵬; 胡譽(yù); 劉福雁; 曹興忠; 于潤(rùn)升; 王寶義; 張鵬; 魏龍
- 其它發(fā)明人：
- 申請(qǐng)日期：2021-06-29
- 授權(quán)日期：2024-04-02
