專利
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一種測量介質(zhì)材料二次電子發(fā)射系數(shù)的方法

  • 英文名稱:Method for measuring secondary electron emission coefficient of dielectric material
  • 專利號(hào):ZL 201910405418.3
  • 專利類別:發(fā)明授權(quán)
  • 專利證書號(hào):
  • 申請?zhí)枺?/span>CN201910405418.3
  • 發(fā)明人:溫凱樂; 劉術(shù)林; 閆保軍; 王玉漫
  • 其它發(fā)明人:
  • 申請日期:2019-05-16
  • 授權(quán)日期:2020-10-09
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