一種用于軟X射線曝光的掩膜的制備方法
- 英文名稱：For soft X-ray exposure of the mask preparation method
- 專利號：ZL 201510977465.7
- 專利類別：發(fā)明授權(quán)
- 專利證書號：
- 申請?zhí)枺?/span>CN201510977465.7
- 發(fā)明人：劉靜; 伊福廷; 張?zhí)鞗_; 王波; 張新帥; 孫鋼杰; 王雨婷
- 其它發(fā)明人：
- 申請日期：2015-12-23
- 授權(quán)日期：2019-06-14
