專利
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正電子發(fā)射斷層掃描儀深度效應(yīng)校正方法及其系統(tǒng)

  • 英文名稱:Positron emission tomography scanner depth effect correction method and system thereof
  • 專利號:ZL 201510956769.5
  • 專利類別:發(fā)明授權(quán)
  • 專利證書號:
  • 申請?zhí)枺?/span>CN201510956769.5
  • 發(fā)明人:孫校麗; 單保慈; 劉雙全; 葛紅紅; 贠明凱; 高娟; 李默涵; 柴培; 章志明; 魏龍; 王駿飛; 韓強(qiáng)強(qiáng); 劉志蓉
  • 其它發(fā)明人:
  • 申請日期:2015-12-19
  • 授權(quán)日期:2018-09-28
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