一種改善光刻膠脫落的方法
- 英文名稱：A method of improving photoresist fall off
- 專利號(hào)：ZL 201510977448.3
- 專利類別：發(fā)明授權(quán)
- 專利證書號(hào)：
- 申請(qǐng)?zhí)枺?/span>CN201510977448.3
- 發(fā)明人：劉靜; 伊福廷; 張?zhí)鞗_; 王波; 張新帥; 孫鋼杰; 王雨婷
- 其它發(fā)明人：
- 申請(qǐng)日期：2015-12-23
- 授權(quán)日期：2018-06-29
