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會(huì)議信息公告

第10屆 X射線顯微術(shù)國(guó)際會(huì)議(XRM2010)

文章來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2010-06-28 【字體:      
第10屆際X射線顯微術(shù)國(guó)際會(huì)議(XRM2010)將于2010年8月15日至20日在美國(guó)芝加哥舉行,會(huì)議將以X射線高分辨成像技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)和在科學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用為主題展開討論。詳細(xì)信息請(qǐng)見http://xrm2010.aps.anl.gov/。
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