光束線

實驗站

研究內(nèi)容

實驗技術

能量范圍

用光模式

1W1A

漫散射

實驗站

晶體材料薄膜、多層膜納米材料

X射線共面衍射／散射

X射線掠入射衍射／散射

X射線反射率／非鏡面散射

X射線掠入射小角散射

8.05keV

專用、

兼用

1W1B

XAFS實驗站

材料科學、納米科學、生物醫(yī)學、環(huán)境科學、化學化工、能源催化、人文考古

透射XAFS

熒光XAFS

4.8-22.8keV

專用、

兼用

1W2A

小角散射實驗站

納米材料、介孔材料、生物大分子、高聚物等

透射小角X射線散射（SAXS）、

廣角X射線散射（WAXS）、

SAXS-WAXS同時測量；

掠入射SAXS、WAXS

8keV

專用、兼用

1W2B

綜合測試實驗站

多方法實驗技術的發(fā)展、常規(guī)吸收譜學、基于高性能探測器的方法學研究

XAFS、激光pump-X光probe時間分辨實驗、XAFS/XRD聯(lián)用實驗、SAXS/WAXS/XAFS聯(lián)用實驗

5-18keV

專用、兼用

3W1

高能測試線站

高能X射線設備和技術驗證，高能X射線應用研究

成像（白光&單色光）

高能動態(tài)衍射 PDF

白光

單色光：40-80keV

專用

1B3

光刻、LIGA實驗站

X射線光學元件研制，如光柵，折射透鏡等

納米光刻

深度X射線光刻

納米光刻：1-3keV

深度X射線光刻：3-12keV 

專用、兼用

4W1A

X射線成像站

晶體形貌

微米相位襯度成像

納米全場成像

微米成像：5-26keV

納米成像：6-10keV

專用、兼用（微米成像）

4W1B

X射線熒光微分析實驗站

物理、催化、生物醫(yī)學、環(huán)境科學、材料科學、人文考古、法學鑒定

XRF

微區(qū)XRF

XES(發(fā)射譜)

粉光聚焦模式 5-18keV及10-18keV

專用、兼用

4W2

高壓實驗站

高溫/低溫高壓下物性研究

高壓粉末XRD
高壓單晶XRD
高壓徑向XRD

10-25keV

專用

4B8

真空紫外實驗站

熒光粉、閃爍體等發(fā)光材料

專用、兼用

4B7A

中能實驗站

能源環(huán)境、材料、化學、生物科學等領域；探測器標定、光學元件表征、X射線輻射計量標準

X射線吸收譜（XAS）； X射線光學計量標準測定、X射線探測器標準傳遞和標定、光學元件的透射比、反射率或者衍射效率標定

Si(111)：2100eV-5700 eV

InSb（111）：1750eV-3400eV

專用、兼用

4B7B

軟X光實驗站

能源環(huán)境、材料、化學等科學領域；探測器標定、光學元件表征、X射線計量標準

近邊X射線吸收譜（XANES）；X射線光學計量標準測定、X射線探測器標準傳遞和標定、光學元件的透射比及反射率標定；

50eV-1700eV

專用、兼用

4B9A

衍射站

材料科學、納米科學、催化能源、生物科學

X射線吸收精細結構（XAFS）

X射線衍射(XRD)

X射線反射率（XRR）

衍射異常精細結構（DAFS）

5-13keV

專用、兼用

4B9B

光電子能譜實驗站

材料科學、催化能源、電子結構研究

同步輻射光電子能譜（SRPES）、角分辨光電子能譜（ARPES）、軟X射線吸收譜（NEXAFS）

15-1000eV

專用、兼用