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學(xué)術(shù)報告

學(xué)術(shù)報告--日本KEK張小威博士

文章來源: 發(fā)布時間:2011-08-06 【字體:      

題 目:1. Synchrotron-Radiation-Based Energy Domain M?ssbauer Spectroscopy

    2. Detection of micro voids in Nb superconductive RF cavity fabrication using a micro focus industrial CT system

報告人:Zhang Xiaowei 張小威(Photon Factory, KEK, Japan)(日本KEK光子工廠)

時  間: 2011年8月9日(星期二)上午9:00

地  點:北京同步輻射裝置12號廳會議室

報告人研究和工作經(jīng)歷簡介:

1989-1991年,在高能物理研究所的AR環(huán)(6.5GeV)上主持設(shè)計、建設(shè)和安裝了世界上第一條X射線波蕩器的束線和實驗站。其中包括光束線上的光學(xué)系統(tǒng)、輻射屏蔽實驗棚、保安聯(lián)鎖系統(tǒng)。同時也設(shè)計了AR實驗廳的電力、冷卻水和壓縮空氣等實驗支援系統(tǒng)。這些工作的一部分歸納發(fā)表在“Construction and performance of an x-ray undulator beamline at the TRISTAN Accumulation Ring” Rev. Sci. Instrum. 63 (1991) 405以及“In-vacuum undulator installed in a 6.5GeV storage ring for producing brilliant 14.4keV M?ssbuer photons” J. Appl. Phys. 74 (1993) 500。
1991-1993年,研發(fā)了X射線波蕩器分光晶體的冷卻技術(shù)、光束位置檢測器,以及強光用X射線探測器。這些工作的一部分歸納發(fā)表在“Construction of a six-circle surface X-ray diffractometer” Abstract of 12th Internationnal Vuum Congree, 5th International Conference on Solid Surface, 12-16 Oct., 1992 The Hague, The Netherlands, 399. 以及 “Flatness and lattice distorsion at the Si/Ge/Si interface characterized by X-ray diffraction” Proceeding of the Sixth Topical Meeting on Crystal Growth Mechanism, Jan. 20-22, 1993, Awara, Fukui Prefec, 249。
1992-1995年,設(shè)計和調(diào)試表面界面結(jié)構(gòu)分析用的六軸衍射儀(重量6噸)以及分角儀的精度校正。這些工作的一部分歸納發(fā)表在「Construction of a six-circle surface X-ray diffractometer」 Abstract of 12th Internationnal Vuum Congree, 5th International Conference on Solid Surface, 12-16 Oct.,  1992 The Hague, The Netherlands, 399. 以及 “Flatness and lattice distorsion at the Si/Ge/Si interface characterized by X-ray diffraction” Proceeding of the Sixth Topical Meeting on Crystal Growth Mechanism, Jan. 20-22, 1993, Awara, Fukui Prefection, 249。
1995年,參加了MR(10GeV,3000m大環(huán))同步輻射光束線建設(shè)和相關(guān)的實驗。
1996-1999年,從事金剛石單色器的研發(fā)工作以及Spring8的BL9XU建站工作,設(shè)計了核共振散射用高分辨單色器設(shè)備。
1998-2002年,從事邁克遜X射線干涉儀和90度X射線衍射現(xiàn)象的研究工作。
1998-2004年,超高分辨晶格比較器方法的研發(fā)和利用X射線的精密角度校正測量方法的研發(fā)
2004-2010年,大尺寸多層膜的KB聚焦鏡的設(shè)計、新插入件束線的改建工作以及微通道水冷單晶硅加工的研發(fā)工作。菲涅爾大口徑X射線折射透鏡的研發(fā)。
2000-2011年,單晶硅完整性的評價以及利用X射線晶體密度法精確測量阿伏伽德羅常數(shù)的研究
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